Metoda de evaporare prin fascicul de electroni este un fel de acoperire de evaporare în vid, care utilizează fascicule de electroni pentru a încălzi direct materialul de evaporare în condiții de vid, pentru a vaporiza materialul de evaporare și a-l transporta pe substrat și pentru a condensa pe substrat pentru a forma o peliculă subțire. În dispozitivul de încălzire cu fascicul de electroni, substanța încălzită este plasată într-un creuzet răcit cu apă, care poate evita reacția dintre materialul de evaporare și peretele creuzetului și poate afecta calitatea filmului. Mai multe creuzete pot fi plasate în dispozitiv pentru a realiza evaporarea și depunerea simultană sau separată a diferitelor substanțe. Cu evaporarea fasciculului de electroni, orice material poate fi evaporat.
Evaporarea fasciculului de electroni poate evapora materialele cu punct de topire ridicat. În comparație cu evaporarea generală a încălzirii cu rezistență, are o eficiență termică mai mare, o densitate mai mare a curentului fasciculului și o viteză de evaporare mai mare. Film și film din diverse materiale optice, cum ar fi sticla conductivă.
Caracteristica evaporării fasciculului de electroni este că nu va acoperi sau nu va acoperi rar cele două părți ale structurii tridimensionale țintă și, de obicei, se depune doar pe suprafața țintă. Aceasta este diferența dintre evaporarea fasciculului de electroni și pulverizare.
Evaporarea fasciculului de electroni este utilizată în mod obișnuit în domeniul cercetării și industriei semiconductoarelor. Energia accelerată a electronilor este folosită pentru a lovi ținta materială, determinând evaporarea și creșterea țintei materialului. În cele din urmă depuse pe țintă.
Ora postării: Dec-02-2022