Tehnologia depunerii fizice în stare de vapori (Physical Vapor Deposition, PVD) se referă la utilizarea metodelor fizice în condiții de vid pentru a vaporiza suprafața unui material sursă (solidă sau lichidă) în atomi sau molecule gazoase sau pentru a o ioniza parțial în ioni și a trece printr-un gaz (sau plasmă) de joasă presiune. Procesul, o tehnologie de depunere a unei pelicule subțiri cu o funcție specială pe suprafața unui substrat, și depunerea fizică în stare de vapori este una dintre principalele tehnologii de tratare a suprafețelor. Tehnologia de acoperire PVD (physical vapor deposition) este împărțită în principal în trei categorii: acoperire prin evaporare în vid, acoperire prin pulverizare în vid și acoperire cu ioni în vid.
Produsele noastre sunt utilizate în principal în evaporarea termică și acoperirea prin pulverizare. Produsele utilizate în depunerea de vapori includ sârmă de tungsten, barci de tungsten, barci de molibden și barci de tantal, iar produsele utilizate în acoperirea cu fascicul de electroni sunt sârmă de tungsten catodică, creuzet de cupru, creuzet de tungsten și piese de prelucrare a molibdenului. Produsele utilizate în acoperirea prin pulverizare includ ținte de titan, ținte de crom și ținte de titan-aluminiu.
